等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場合下產生的物質。等離子清洗/刻蝕產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電磁場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也越來越長，受磁場作用，發生碰撞而形成等離子體，同時會發生輝光。等離子體在電磁場內空間運動，并轟擊被處理物體表面，從而達到表面處理、清洗和刻蝕的效果。

　　等離子清洗機處理工藝可以實現有選擇的表面改性：

　　●活化：大幅提高表面的潤濕性能，形成活性的表面

　　●清洗：去除灰塵和油污，精細清洗和去靜電

　　●涂層：通過表面涂層處理提供功能性的表面

　　●提高表面的附著能力

　　●提高表面粘接的可靠性和持久性

　　等離子清洗機的應用起源于20世紀初，隨著高科技產業的快速發展，其應用越來越廣，目前已在眾多高科技領域中，居于關鍵技術的地位，等離子清洗技術對產業經濟和人類文明影響大，*電子資訊工業，尤其是半導體業與光電工業。

　　等離子體是物質的一種存在狀態，通常物質以固態、業態、氣態3種狀態存在，但在一些特殊的情況下可以以第四中狀態存在，如太陽表面的物質和地球大氣中電離層中的物質。這類物質所處的狀態稱為等離子體狀態，又稱位物質的第四態。等離子體中存在下列物質。處于高速運動狀態的電子；處于激活狀態的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；分子解離反應過程中生成的紫外線；未反應的分子、原子等，但物質在總體上仍保持電中性狀態。