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小型濺射儀 直流濺射鍍膜儀

產品簡介

KT-Z1650PVD是一款小型濺射儀 直流濺射鍍膜儀功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節,及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

產品型號:
更新時間:2024-03-27
廠商性質:生產廠家
訪問量:1449
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品牌鄭科探價格區間面議
產地類別國產應用領域電子

     KT-Z1650PVD是一款小型濺射儀 直流濺射鍍膜儀功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節,及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。


小型濺射儀 直流濺射鍍膜儀技術參數

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

大功率

≤1000W

大輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

極限真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62  (大可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口


針對市場上其它型號我們做如下改進

1 腔體擴充口可增加擴展口  大可擴展KF40接口方便連接分子泵 或 晶控傳感器

2 樣品可旋轉 大轉速20轉每分鐘 使鍍膜樣品更均勻

3 輕旋轉機械手柄 樣品高度可精細調節 樣品距離靶材距離可到1mm

4 電動擋板 使用人機界面程序控制打開或者關閉時間

5 可通過人機界面手動或者使用編程自動控制預濺射(洗靶) 恒定功率輸出  變換功率輸出 定時打開擋板(時間單位 秒)關閉擋板 樣品轉速  工藝可存儲  工藝名稱可改 利如 噴金20納米厚

6 腔體上蓋鉸鏈安裝 更換靶材方便操作

7 此產品已申請多項技術 抄襲請慎重!?。?/span>


    目前公司已研發生產產品十多個系列幾十款產品,產品囊括實驗電爐   CVD供氣系統   等離子清洗機   小型離子濺射儀   小型蒸鍍儀  石英管真空封口   半導體檢測等。 主要適用于科研院校及工礦企業在新材料、新能源等領域物理特性及化學特性的研究,廣銷于各大院校,及材料研究所。

   公司與國內高校,科研院所有多層次的合作關系,建有開放實驗室,相關領域的教授、高級工程師、博士參與公司產品的研究和開發。我們秉承公司的發展理念,依靠嚴謹的技術研發能力,科學合理的生產工藝,精益求精的制造要求,全心全意做好產品質量和服務工作,科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。



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