KT-Z1650PVD是一款小型新款磁控濺射儀小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

針對市場上其它型號我們做如下改進

1 腔體擴充口可增加擴展口  大可擴展KF40接口方便連接分子泵 或 晶控傳感器

2 樣品可旋轉 大轉速20轉每分鐘 使鍍膜樣品更均勻

3 輕旋轉機械手柄 樣品高度可精細調節 樣品距離靶材距離可到1mm

4 電動擋板 使用人機界面程序控制打開或者關閉時間

5 可通過人機界面手動或者使用編程自動控制預濺射（洗靶） 恒定功率輸出  變換功率輸出 定時打開擋板（時間單位 秒）關閉擋板 樣品轉速  工藝可存儲  工藝名稱可改 利如 噴金20納米厚

6 腔體上蓋鉸鏈安裝 更換靶材方便操作

7 此產品已申請多項技術 抄襲請慎重?。。?/strong>

小型新款磁控濺射儀技術參數：