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  • 小型濺射儀 直流濺射鍍膜儀

    KT-Z1650PVD是一款小型濺射儀 直流濺射鍍膜儀功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節,及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

    更新時間:2024-03-27
    產品型號:
    瀏覽量:1450
  • 小型臺面式熱蒸發鍍膜儀

    小型臺面式熱蒸發鍍膜儀是一款小型臺式蒸發功率可控蒸發鍍膜儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節,及電動擋板功能。通過定時調節預熱功率及蒸發功率,可對大部分金屬進行均勻蒸發沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。

    更新時間:2024-03-29
    產品型號:
    瀏覽量:1444
  • 單靶磁控濺射儀

    此款單靶磁控濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜(金膜),儀器操作簡單方便,設備配有微量充氣閥調節工作真空,在 20Pa 真空保護。同時,配有進氣口和微量充氣調節裝置,以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。

    更新時間:2024-03-27
    產品型號:
    瀏覽量:2315
  • 磁控濺射儀

    KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節,及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

    更新時間:2024-03-27
    產品型號:
    瀏覽量:10934
  • KT-S2DQX真空等離子清洗

    KT-S2DQX型真空等離子清洗電源屬于150W 13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設備,主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等

    更新時間:2024-03-30
    產品型號:KT-S2DQX
    瀏覽量:1379
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